1、深反应离子刻蚀
深反应离子刻蚀（DRIE）是一个很好的例子，DRIE通过精密刻蚀硅材料，严格控制深度、宽高比及侧壁轮廓来实现3D结构。
2、深反应离子蚀刻
可以采用光刻术和蚀刻技术形成下部的多种部件(例如流体储存器、射流通道和泵)。例如，采用模具作为深反应离子蚀刻(DRIE)的蚀刻掩模以形成所述部件。还可以采用标准模制或加工技术形成下部。
3、深层离子蚀刻技术(Deep Reactive Ion Etching)
... a light beam is deflected from one optical fiber into another perpen- dicular optical fiber deep reactive ion etching (DRIE): an etching process that allows for very high-aspect-ratio etching of silicon 1 electromagnetic actuation: the movement...