1、[电子]光刻胶
关键词：ITO玻璃基板；光刻胶；涂胶厚度；涂胶均匀性；涂胶缺陷 [gap=692]Key words: ITO glass; Photoresist; Film thickness; Film equality; gelatinizing defect ...
2、光致抗蚀剂
所说的光刻胶,又称光致抗蚀剂(Photoresist),是指通过紫外线、电子束、离子束、X-射线等的映射或者辐射,其消融度变了样子的耐蚀刻薄膜质料,经暴光和显影而使消融度增加的是正...
3、光阻
半导体制程中所使用的光阻 (Photoresist)即为光微影制程 中之隔绝材料 使用一迟缓环境取代一 正常环境，增加中性部 分或迟缓添加物于一物 体或系统 隔绝材料 39 1.
4、光阻剂
2．2颜料分散法用光阻剂 光阻剂（PhotoResist）是一种感光材料，亦称光刻胶，其广泛应用在半导体 及TFT-LCD面板生产线的微影制程中。
positive photoresist[电子] 正性光刻胶;正性胶;光阻剂
photoresist system光阻系统
solid photoresist固体光刻胶
photoresist etching光刻胶掩蔽腐蚀
cinnamate photoresist肉桂酸酯光刻胶
AZ9260 photoresistAZ9260光刻胶
photoresist technology光刻胶工艺
nagative photoresist负性光刻胶
photoresist coveringer涂胶器